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Anfang Mai führte die ChemAcademy erfolgreich einen Workshop zum  CLP Art. 45 durch. Moderiert wurde er von Markus Pogrzeba und David Köhler von opesus.

Letzte Woche waren wir bei opesus wieder einmal sehr aktiv: Auf ein Treffen des EH&S Arbeitskreises der Deutschsprachigen SAP-Anwendergruppe e.V. (DSAG) folgte gleich am nächsten Tag ein Meeting des EHS IT-Arbeitskreises des Verbands der Chemischen Industrie e.V. (VCI). Als stellvertretender Sprecher des DSAG EH&S-Arbeitskreises stand Markus Pogrzeba von opesus in der Verantwortung und auch in der VCI EHS IT-Arbeitsgruppe war er eingeladen, über die neuesten Entwicklungen bei CLP Art. 45 zu sprechen.

Diese Woche freuten wir uns ganz besonders darüber, das Podium bei den SAP Sustainability Innovation Days 2019 mit Frau Ingrid Dörner von der Firma Merck teilen zu können. Zwei Tage lang gab es viel wissenswertes und den neuesten Stand zu S/4HANA Product Compliance & EHS zu erfahren. Abgerundet wurde das Event durch Vorträge und Erfahrungsberichte einiger Kunden.

 

Getestet, geprüft und freigegeben. Die opesus EHS Product Notification Software erstellt nun auch Dossiers im Poison Centres Notification (PCN) Format.

Das heißt: Sie können Dossiers nun direkt aus Ihrem SAP-System erstellen und herunterladen. Danach laden Sie es einfach in das ECHA Submission Portal. Auf diese Weise erfüllen Sie die Anforderungen von Art. 45 und Anhang VIII der CLP-Verordnung für Ihr Produktportfolio.

Die Europäische Chemikalienagentur (ECHA) hat das technische Format für Meldungen an Gitfinformationszentren (nach CLP Artikel 45) veröffentlicht! Das neue PCN-Format dabei auf dem international harmonisierten IUCLID Format. In diesem Artikel zeigen wir Ihnen die Auswirkungen für die Industrie auf.

Wir haben eine neue Version des opesus UFI Generator für SAP EHSM Kunden veröffentlicht. Mit der neuen Version können Unique Formular Identifier (UFI) automatisiert erzeugt und in SAP EHSM abgelegt werden.

opesus hat gerade opesus UFI-Generator für SAP® EHSM veröffentlicht. Alle SAP EHSM-Kunden können diesen kostenlos unter der MIT-Lizenz herunterladen.

Von Caroleigh Deneen, SAP: